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真空鍍鋁膜的生產工藝流程

真空鍍鋁膜的生產工藝流程為：基材放卷→抽真空→加熱蒸發舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷；其真空鍍鋁方式有轉移法和直接蒸鍍法兩種。

（1） 轉移法是借助載體膜將金屬鋁層轉移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉移法是在直接蒸鍍法基礎上發展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。

（2）直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是表面要形成光亮的金屬膜時，需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，則采用直接蒸鍍法時，需要在鍍鋁前進行表面涂布。另，在蒸鍍過程中要求基材的揮發物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質量要求高，并對紙的定量有一定的限度；也就是說直接蒸鍍法對基材的適用范圍有較大的局限性。

真空鍍鋁對被鍍基材的要求：

（1）基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻，即基材應具有一定的強度和表面平滑度；挺度和摩擦系數適當。

（2） 耐熱性好，基材經得起蒸發源的熱輻射和蒸發物的冷凝潛熱，彩色鍍鋁膜生產，基材含水量低于0.1%。。

（3）薄膜基材產生的揮發性物質要少；表面潤濕張力大于38dyn/cm。

（4）對鍍鋁層的粘接性良好；對于非極性材料，真空鍍鋁前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。

真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，彩色鍍鋁膜廠家，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，彩色鍍鋁膜價格，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

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