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真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，pet彩色鍍鋁膜定做包裝，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，彩色鍍鋁膜，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

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