真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材(筒狀〕裝在真空蒸鍍機中,用真空泵抽真空,使鍍膜中的真空度達到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃~1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度,一般鍍鋁層厚度在25~500nm,鍍鋁薄膜的寬度為800mm~2000mm。
目前應用多的鍍鋁薄膜主要有聚酯鍍鋁膜(VMPET)和CPP 鍍鋁膜(VMCPP)。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射,既延長了內容物的保質期,又提高了薄膜的亮度,從一定程度上代替了鋁箔,也具有價廉、美觀及較好的阻隔性能,因此,鍍鋁膜在復合包裝中的應用十分廣泛,目前主要應用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫l藥、化妝品的外包裝上。
塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法,即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。蒸鍍時,將卷筒薄膜置放于真空室內,關閉真空室抽真空。當真空度達到一定(4×10-4mba以上)時,將蒸發舟升溫至1300℃~1400℃,然后再把純度為99.9%的鋁絲連續送至蒸發舟上。調節好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發量,開通冷卻源,使鋁絲在蒸發舟上連續地熔化、蒸發,從而在移動的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。
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